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多学习还是有用，首先，“28nm工艺的国产沉浸式光刻机”这个名词就是错的。其次，这个消息并不是官方透露的，而是一个网友（自称上微员工）发在某论坛，以讹传讹传成了现在这样，所以大家也不必太乐观。再次，我们现在正在攻克的新一代光刻机是193nm duv光刻机，这个已知是193nm光源的光刻机，28nm只是指该光刻机的光刻节点，而台积电的第一代7nm工艺所使用的就是193nm的光刻机，而之前90nm的那台光刻机使用的是365nm的光源，365nm>248nm>193nm，这次相当于是直接跨过了248nm这个环节直接跳到了193nm，而之前365nm的时候还曾试验过光刻22nm，居然也成功光刻出来了（虽然效果不理想），这就意味着我们国内的浸润式领域可能进步得更快，未来这台光刻机做7nm的话可能问题也不大如果按照台积电对当前制程的定义，通过多重套刻是能到7nm的。但目前来说2021年交付并不是很乐观，所以也没必要欢呼，能成当然高兴，不能成也希望大家宽容点，别喷。
2021-03-18
